Nuestros limpiadores de gas están diseñados específicamente para tratar de forma fiable y eficiente los gases de escape industriales. Ayudan a reducir las emisiones y a cumplir los requisitos normativos. Mediante tecnologías de última generación se eliminan los contaminantes de las corrientes de gas o se convierten en compuestos inofensivos.
A continuación encontrará una tabla con una selección de gases de escape típicos y los métodos correspondientes con los que pueden ser tratados. Esto le proporciona una visión práctica del rendimiento de nuestros sistemas.
MIDAS-I
El depurador MIDAS-I combina tecnología de quemador de gas con limpieza húmeda y ofrece un tratamiento eficiente de hasta 200 SLM de gases de proceso que contienen CFC.
| Características técnicas | Datos del producto |
|---|---|
| Entrada de gas | NW40, 1-4 PORT |
| Salida de gas | NW63, 1 PORT / -25 a -75 mmH2O |
| Extracción del armario | Ø 150 mm BRIDA / -50 a -125 mmH2O |
| Consumo eléctrico | 2 kW |
| Tensión / fase | 208 V / 2‑50/60 Hz, 10 A |
| LNG | Máx. 65 SLM; Máx. 500 mmAq; 3/4" BRASS LOK FITTING |
| CDA (aire comprimido) | Máx. 200 SLM; 2-3 Kgf/cm² (2-3 bar); 1/4" BRASS LOK FITTING |
| Agua de red | Máx. 8 SLM; 2-3 Kgf/cm² (2-3 bar); 1/2" BRASS LOK FITTING |
| N₂ (nitrógeno) | Máx. 60 SLM; 4-6 Kgf/cm² (4-6 bar); 1/4" BRASS LOK FITTING |
| Drenaje de aguas residuales | 3/4" PVC UNION CONNECTION |
| Dimensiones | 1050 (W) × 880 (D) × 1980 (H) mm |
| Peso | 460 kg |
| Certification | CE |
| Aplicación | FDP, I+D, Semiconductores |
SemiAn Burn-Wet Depurador SWB 200
Depurador de gases con lavador de entrada para la descomposición térmica y oxidación de componentes tóxicos. La limpieza de los gases se realiza en tres pasos: lavado de los componentes solubles, descomposición pirofórica de fracciones tóxicas o inflamables y limpieza posterior con un lavador y un sistema de recirculación de agua. Este tipo de instalación se utiliza para la limpieza de gases de escape de procesos PE-CVD (fabricación de semiconductores y LCD), LP-CVD y AP-CVD, así como gases de escape de reactores MO-CVD (optoelectrónica).
| Características técnicas | Datos del producto |
|---|---|
| Volumen de gas | 200 - 400 SLM |
| Temperatura del calentador | 800 - 850 °C |
| Consumo | 10 kW |
| Dimensiones (An×F×Al) | 800 × 850 × 2000 mm |
| Peso | 450 kg |
| Certification | CE |
| Sistema de neutralización de aguas residuales | Disponible |
SemiAn Burn-Wet Depurador SBW 200-S
Depurador de gases para la descomposición térmica y oxidación de componentes tóxicos en combinación con un lavador para separar fracciones de gas solubles y un sistema de recirculación de agua. Este tipo de instalación es adecuado para la limpieza de gases de escape de implantadores iónicos, PE-CVD, LP-CVD y AP-CVD, así como de reactores MO-CVD (optoelectrónica).
Además de la versión estándar del SBW‑200, existe también un modelo especial con quemador de plasma, diseñado específicamente para la descomposición de clorofluorocarbonos (CFC). Más detalles se encuentran aquí.
| Características técnicas | Datos del producto |
|---|---|
| Entrada de gas | Brida NW40, 1-3 conexiones |
| Salida de gas | Brida NW63, 1 conexión / -25 a -75 mmH2O |
| Extracción del armario | Diámetro 150 mm brida |
| Consumo eléctrico | Máx. 7.5 kW |
| Tensión / Fase | 208-220 V / 3 Fase, 60 Hz, 30 A |
| CDA (aire comprimido) | Máx. 200 SLM; 2-3 Kgf/cm²; racor 3/8" |
| Agua de red | Máx. 6-8 SLM; 2-3 Kgf/cm²; racor 3/8" |
| Entrada/Salida de agua de refrigeración | Máx. 12-16 SLM; 2-3 Kgf/cm²; racor 1/2" |
| N₂ (nitrógeno) | Máx. 60 SLM; 4-6 Kgf/cm²; racor 1/4" |
| Dimensiones | 1800 (W) × 900 (D) × 1800 (H) mm |
| Peso | 560 kg |
| Certification | CE |
| Aplicación | R&D |
SemiAn Burn-Wet Depurador SBW III-202-S
Versión grande del depurador, compuesta por varias unidades de descomposición térmica en paralelo para la oxidación de componentes tóxicos y lavado posterior. La limpieza de gases se lleva a cabo en dos pasos: descomposición pirofórica de fracciones tóxicas o inflamables y limpieza posterior con un lavador y un sistema de recirculación de agua. Este tipo de planta se utiliza preferentemente para la limpieza de gases de escape en la producción de LCD para PE-CVD, para gases de reactores MO-CVD en optoelectrónica y para gases de reactores de epitaxia.
| Características técnicas | Datos del producto |
|---|---|
| Temperatura de la cámara de calentamiento | 800 - 850 °C |
| Conexión de entrada | Brida ISO 63, 1 conexión |
| Conexión de salida | Brida ISO 200, 1 conexión / -25 a -75 mmH2O |
| Conexión de extracción del armario | Diámetro 100 mm brida / -25 a -125 mmH2O |
| Conexión de salida de aguas residuales | Racor 1/2" |
| Potencia eléctrica | 20 kW |
| Tensión / Frecuencia / Fase | 208 V / 50/60 Hz / 3 Fase, corriente nominal 75 A |
| Corriente a plena carga | 55 A |
| Corriente de operación | 30-40 A |
| Entrada/Salida de agua de refrigeración | 2-3 Kgf/cm²; 8-12 SLM; racor 3/8" |
| CDA (aire comprimido) | 2-3 Kgf/cm²; máx. 750 SLM; racor 1" |
| Nitrógeno | 4-6 Kgf/cm²; máx. 100 SLM; racor 1/4" |
| Conexión de muestreo de gases | Racor 1/4" |
| Dimensiones | 1800 (W) × 900 (D) × 2000 (H) mm |
| Aplicación | Si-C, MO-CVD, PE-CVD |
| Certification | CE |
| Peso | 1200 kg |
