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VF1000: Ein flexibler und kostengünstiger Vertikalofen für Forschung und Entwicklung.

Der VF1000 ist ein kompakter, hochpräziser Vertikalofen, der speziell für Forschungslabore, Pilotlinien und kleine Produktionsumgebungen entwickelt wurde. Trotz seiner platzsparenden Bauweise bietet er eine Prozessqualität, die mit vollwertigen Produktionsanlagen vergleichbar ist und das zu deutlich geringeren Investitionskosten. Mit seiner Fähigkeit, Wafergrößen von 2 bis 8 Zoll bis hin zu 300 mm zu verarbeiten und Mini-Batches von bis zu 25 Wafern zu unterstützen, deckt der VF1000 ein breites Anwendungsspektrum ab.

Im Herzen des Systems stehen die patentierten Light Gauge Over-Bend (LGO) Heizelemente von JTEKT Thermo Systems, die eine außergewöhnlich gleichmäßige Temperaturverteilung und Reproduzierbarkeit ermöglichen, identisch zur Performance großer Massenproductionsöfen. Dank des modularen Heizkonzepts können zudem verschiedene Heizeroptionen gewählt werden, sodass Prozessentwicklungen unter denselben Bedingungen wie in der Serienfertigung stattfinden.

Durch seine manuelle Beladung bietet der VF1000 höchste Flexibilität, was ihn zum idealen Werkzeug für vielseitige Versuchsreihen, gemischte Kleinserien und variierende Substrattypen macht. Er unterstützt eine breite Palette thermischer Prozesse, darunter Oxidation, Diffusion, LPCVD, Oxynitridation sowie Aktivierungsprozesse für Silizium- und SiC-Leistungshalbleiter. Installationen an renommierten europäischen Forschungseinrichtungen wie der Universität Uppsala und dem Fraunhofer IISB unterstreichen die Zuverlässigkeit und Leistungsfähigkeit dieses Systems.

Vorteile

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  Geringe Kosten
  Der VF1000 bietet eine außergewöhnlich kosteneffiziente Lösung für thermische Prozessierung im R&D-Bereich und in der Kleinserienfertigung. Durch sein kompaktes Design und die gezielt reduzierten Automationsfunktionen können Labore und Pilotlinien auf Prozessqualität im Produktionsstandard zu einem Bruchteil der üblichen Investitionskosten zugreifen.
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  Technik auf Produktionsniveau
  Bis auf den automatisierten Wafertransfer entsprechen sämtliche Funktionen des VF1000 denen der größeren Modelle. Der Ofen nutzt die hauseigene LGO-Heizeinheit von JTEKT Thermo Systems, die höchste Temperaturgleichmäßigkeit, schnelle Aufheizraten und exzellente Prozessstabilität garantiert. Damit eignet sich der VF1000 optimal für anspruchsvolle Entwicklungen und reproduzierbare Kleinläufe.
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  Kleiner Footprint
  Die sehr kleine Stellfläche macht den VF1000 besonders attraktiv für Einrichtungen mit begrenztem Raumangebot. Dank des flexiblen Aufbaus kann der Ofen problemlos selbst in engen Laborumgebungen installiert werden.
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  Erweiterbar für viele Anwendungen
  Der VF1000 ist modular aufgebaut und kann durch verschiedene Optionen erweitert werden. Dadurch lässt sich seine Leistungsfähigkeit optimal an spezifische Anwendungen anpassen, darunter LPCVD-Prozesse, Oxidation, Diffusion und viele weitere thermische Verfahren.

Eine Übersicht über unsere Vertikalöfen finden sie hier.

VF3000: Kompakter Vertikalofen mit zahlreichen Funktionen.

Der VF3000 ist ein vielseitiger, vollautomatisierter Vertikalofen, der speziell für Forschungslabore, Pilotlinien und kostenoptimierte Produktionsumgebungen entwickelt wurde. Er schließt die Lücke zwischen kompakten, manuell beladbaren Systemen und großen Massenproduktionsanlagen. Trotz seines wirtschaftlichen Designs bietet der VF3000 eine Prozessqualität und Temperaturstabilität, die für Anwendungen von R&D bis zur Kleinserienfertigung ausgelegt ist und dieses bei Investitionskosten von nur rund 50 % einer vollwertigen Produktionsanlage. Mit der Fähigkeit, Wafergrößen von 4 bis 8 Zoll in Mini-Batches von 50 bis 75 Wafern zu verarbeiten, deckt der VF3000 ein breites Anwendungsspektrum ab.

Im Herzen des Systems stehen die patentierten Light Gauge Over-Bend (LGO) Heizelemente von JTEKT Thermo Systems, die eine außergewöhnlich gleichmäßige Temperaturverteilung von niedrigen bis hin zu ultra-hohen Temperaturen ermöglichen. Optional stehen MoSi₂- und Carbon-Heizer zur Verfügung, sodass Prozesse wie Oxidation, Diffusion, LPCVD (z. B. Si₃N₄ und Polysilizium), Oxynitridation sowie Aktivierungs-Anneals auch für SiC-Leistungshalbleiter unter identischen Bedingungen wie in der Serienfertigung durchgeführt werden können.

Durch den vollautomatischen Wafer-Transport mit einem schnellen Single-Wafer-Handling-Roboter bietet der VF3000 höchste Effizienz und Reproduzierbarkeit. Eine komplette Batch-Beladung erfolgt in nur etwa 15 Minuten, wobei bis zu vier Kassetten direkt in die integrierten Regalböden eingesetzt werden. Die Prozesskammer erreicht Reinheitsklasse 1 und der horizontale Gasstrom sorgt für eine besonders saubere und partikelfreie Substratführung. Damit eignet sich der VF3000 optimal für moderne Forschungsumgebungen, flexible Pilotproduktionen und Anwendungen mit hohen Reinheits- und Temperaturanforderungen.

Vorteile

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  Geringe Kosten
  Der VF3000 bietet ein hervorragendes Kosten-Nutzen-Verhältnis mit nur rund 50 % der Investitionskosten einer großen Massenproduktionsanlage. Damit ermöglicht er hochwertigen thermischen Prozessierungen im R&D- und Pilotfertigungsbereich zu besonders attraktiven Konditionen.
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  Technik auf höchstem Niveau
  Der VF3000 nutzt die patentierten LGO-Heizelemente von JTEKT Thermo Systems und bietet damit höchste Temperaturgleichmäßigkeit, schnelle Reaktionszeiten und Prozessstabilität, ideal für anspruchsvolle Prozesse wie Ultra-Hochtemperaturbehandlungen für SiC-Power-Devices.
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  Kleiner Footprint
  Mit nur etwa 70 % der Stellfläche einer vollwertigen Produktionsanlage überzeugt der VF3000 durch sein raumsparendes und flexibel integrierbares Design und eignet sich daher besonders für Labore, Pilotlinien und produktionsnahe Entwicklungsbereiche.
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  Automatisierter Wafertransport
  Der integrierte Single-Wafer-Handling-Roboter ermöglicht vollautomatische Batch-Beladungen in etwa 15 Minuten und sorgt dank Class-1-Atmosphäre und horizontalem Gasstrom für besonders sauberes und sicheres Handling.
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  Erweiterbar für viele Anwendungen
  Durch flexible Heizeroptionen (LGO, MoSi₂ oder Carbon) unterstützt der VF3000 eine breite Palette thermischer Prozesse, darunter Oxidation, Diffusion, LPCVD, Oxynitridation und Aktivierungs-Anneals. Damit ist er ideal geeignet für vielseitige R&D- und Pilotserienanwendungen.