Cet équipement est un four vertical très performant spécialement conçu pour les lignes pilotes et les laboratoires de Recherche et Développement. Son coût réduit, tant à l'achat qu'en fonctionnement, ses faibles dimensions, sa facilité d'utilisation, contibuent largement à l'accroissement de sa popularité en Europe. Proposé en version mini-batch (25 tranches), sa grande flexibilité permet de traiter des diamètres de 100 mm (ou moins) jusqu'à 300 mm. Le chargement manuel des substrats dans le Boat offre à l'utilisateur la possibilité de choisir la nature et la forme des pièces à traiter. L'enfournement automatique du boat et l'utilisation d'un contrôleur programmable permettent d'atteindre un niveau de performances élevé. Les modèles de fours VF1000 sont compatibles avec tous les procédés et offrent les mêmes performances que les modèles de production de masse. Les fours VF 1000 sont évidemment équipés d'éléments chauffants type LGO. Dix de ces fours sont installés et visibles dans les salles blanches de l'Université d'Uppsala qui, dans le cadre d'un accord de partenariat, constitue un centre d'applications "application center" pour Crystec. Uppsala est situé en Suède. 
L'institut IISB de Fraunhofer, à Erlangen, nous autorise à montrer quelques photos des fours verticaux VF 1000 utilisés pour les procédés LPCVD.
Sur notre page intitulée furnace comparison page dans laquelle nous établissons une comparaison technique entre les fours verticaux et horizontaux, vous trouverez également une description détaillée du four en question.

VF2000. Le modèle VF2000 est comparable au modèle VF1000 en matière de performances techniques. Il offre, cependant, la possibilité de traiter jusqu'à 100 tranches et propose l'option " Loadlock purge", maintien sous azote de la zone d' enfournement . Ce type de four est également très bien adapté pour la réalisation d'oxydes fins a des cadences de production plus importantes.

Caratéristiques ----------------------------------------

• Coût : Coûts d'investissement et d'exploitation faibles.
• Performances : Très hautes performances avec, cependant, un chargement des plaques manuel. Elément chauffant type LGO, compatibilité Classe 10, empreinte au sol inférieure à 2m². Des modèles sous-vide pour dépôts (LPCVD) sont également disponibles.
• Grande flexibilité dûe au chargement manuel des substrats dans le Boat.
• Mode de contrôle du système : Choix entre deux modèles d'automates programmables.
• Dimensions : Un encombrement réduit qui permet d'installer ce four dans un laboratoire de très petite taille.

Ce modèle de four vertical a été conçu pour faire le pont entre le VF 1000, très flexible mais à chargement de tranches manuel et les gros systèmes de production de masse entièrement automatisés. Lorsque l'utilisateur traite des tranches de silicium de grand diamètre (>150 mm), la manipulation devient difficile et le chargement automatique s'impose. Le VF 3000 propose, pour un coût réduit, un dispositif de chargement automatique. Il permet de traiter jusqu'à 50 plaques de diamètres 150 mm à 200 mm dans une gamme de procédés large et variée. Le chargement est du type cassette / cassette. La station de chargement est placée sous un flux d'azote horizontal afin d'éviter la contamination particulaire. L'élément chauffant est de type LGO.

Caratéristiques ----------------------------------------

• Coût réduit : 50% inférieur à celui d'un four de production de masse.
• Empreinte au sol réduite : 70% inférieure à celle d'un four de production de masse.
• Temps de chargement des plaques : 15 minutes par batch.
• Haute propreté : Class 1 dans la chambre.
• Présence de l'élément chauffant hautes performances de type LGO.

Le modèle VF-5100 a été créé en 1990 par KTS comme le premier four vertical robotisé et a fait l'objet d'un développement constant jusqu'à aujourd'hui. Cet équipement très populaire est utilisé dans de nombreuses unités de fabrication à travers le monde. Le principe d'acheminement des plaques est très simple et ne requiert pas de maintenance lourde. Les cassettes sont déposées et stockées sur une table rotative. Cette opération peut être aussi assurée par AGV (Automated Guided Vehicle). Un robot à bras unique permet le transport des plaques. 5 plaques peuvent être simultanément chargées dans le boat par un robot haute propreté. 150 plaques peuvent être traitées en même temps d'une manière efficace et très sûre. Les performances de l'élément chauffant du VF-5100 sont très appréciées des utilisateurs. Un sas, disponible en option, permet le maintien des plaques sous flux d'azote pour éviter tout accroissement de l'oxyde natif. Une version avec SMIF est également disponible.

Caratéristiques ----------------------------------------

• Stockage : La table tournante présente une stucture simple et facile d'entretien.
• Transfert : Une conception simplifiée renforce la fiabilité du transport des plaques.
• Capacité de production de 150 plaques par cycle.
• Caratéristiques de température : Le modèle VF-5100 est équipé d'un élément chauffant de type LGO permettant d'excellentes performances à basse température.
• Sas sous flux d'azote : Le modèle VF-5100 a été le premier four présentant un sas sous flux d'azote pour empêcher l'accroissement de l'oxyde natif sur la surface des plaques de silicium.
• Installation : Les modèles VF-5100 peuvent être installés côte à côte.

Le modèle VF-5300 représente la forme évoluée du VF-5100 et peut stocker en permanence jusquà 20 cassettes. Un dispositif optionnel permet de traiter 2 batches consécutivement. Ce four hautes performances, qui possède tous les atouts pour traiter les plaques de 200 mm dans les meilleures conditions, est très utilisé en Asie comme en Europe. Le dispositif de stockage à plusieurs niveaux, facilite la formation des opérateurs. Les fonctions de transfert de cassettes et plaques sont optimisées et très fiables. Le chargement des plaques sur le boat est assuré par deux robots indépendants. Le vide n'est pas utilisé pour maintenir les plaques pendant le transfert. La cadence de production est supéreure à celle du modèle VF 5100. L'élément chauffant de type LGO permet d'obtenir une zone de chauffe très longue et très uniforme avec une excellente stabilité à basse température. La faible masse thermqiue de l'élément chauffant offre des temps de montée et descente en température très courts avec un recouvrement de température extrêmement rapide et sans overshoot quel que soit le seuil de température à atteindre. La communication de type Secs II avec un superviseur est possible sur cet équipement. Une version avec SMIF est également disponible.

Caratéristiques ----------------------------------------

• Stockage : Le stockeur peut contenir jusqu'à 20 cassettes et permet de traiter deux batches consécutivement. Une option software permet de traiter 3 batches à la suite.
• Zone de chauffe de 960mm et capacité de 150 plaques par opération.
• Caratéristiques de Temperature : Identiques à celles du VF-5100.
• Fonctionnalités : Le modèle VF-5300 possède toutes les ofnctions requises pour la réalisation de procééds dans les meilleures conditions de production.
• Transport de plaques : Le modèle VF-5300 peut être configuré pour plusieurs modes de transport des plaques.
• Installation : Les modèles VF-5300 peuvent être installés côte à côte.

Le modèle VF-5700 est un four "mini-batch" pour le traitement des plaques de 200mm et 300mm. Son élément chauffant est conçu pour permettre des élévations et des descentes en température très rapides permettant ainsi le Q-TAT. Les points forts de ce four sont d'une part son aptitude à traiter des batches réduits et d'autre part la réduction des temps de procédé grâce aux performances de l'élément chauffant. Ce système est très flexible et peut être utilisé aussi bien comme outils de R&D que comme outil de production. La table tournante du même type que celle du VF-5100 permet de stocker 4 cassettes. Un robot haut de gamme à bras jumelés assure le transfert des plaques. Les boats sont spécialement conçus pour éviter la propagation des "slip lines" lors des variations rapides de température. L'élément chauffant, de conception récente, permet des montées et descente en températures très rapides tout en assurant une grande stabilité de la température. Le contrôleur traville sous environnement Windows NT. Sont disponibles en option, un sas à refroidissement rapide (purge N2) ainsi qu'un boat rotatif.
Une version avec FOUP est également disponible. Dans ce cas, les plaques sont directement transférées de la cassette ouverte vers le boat. Cette version offre, pour un coût d'acquisition faible et un encombrement très réduit, des performances de très haut niveau.

Caratéristiques ----------------------------------------

• Capacité du boat : 26 ou 50 plaques.
• Montée / Descente en température très rapides. L'élément chauffant, permet des taux de montée en température de l'ordre de 60°C/min, et des taux de descente de 50°C/min, sans charge.
• Mini-batch ou charge réduite : Idéal pour les productions limitées et les applications de R&D.
• Transfert : Une structure très simple qui facilite l'entretien et assure une grande fiabilité.
• Contrôle : L'utilisation de Windows NT permet d'optimiser le contrôle de l'appareil.

Le modèle VF-5900, conçu pour recevoir des plaques de 300mm, peut accepter un empilement de 12 FOUPs (Front Opening Unified Pods) et peut traiter, en continu, deux batches de 100 plaques chacun. Tous les FOUPs chargés sur le port Entrée / Sortie sont conduits vers les étagères de la zone de stockage. Ensuite, les FOUPs sont acheminés, sur demande, vers la station interne d'ouverture de porte. Les plaques sont chargées vers le boat par un robot à bras jumelés sans maintien par aspiration. Le Boat de type "echelle" est  conçu pour éviter les "slip lines" sur les plaques. Le modèle VF-5900 est équipé d'un élément chauffant de type LGO ainsi que d'un dispositif de refroidissement forcé pour accroître sa capacité de production. Un sas de purge sous Azote, disponible en option, permet encore d'accroître les performances de certains procédés. Le système est piloté par un contrôleur (modèle 1400 de Mitsubishi) compatible avec OS Windows. Ce contrôleur, compatible SECS II et GEM répond également aux éxigences des standards SEMI et HSMS.

Caratéristiques ----------------------------------------

• Grande capacité de traitement : pas moins de 100 plaques peuvent être traitées en continu sur deux batches.
• Elément chauffant récemment développé.
• Sas de purge N₂ : La fonctionnalité du sas de purge du VF-5900 a été reconçue pour en augmenter la capacité de production.
• Facilité d'utilisation : Le pilotage du four est facilité par l'utilisation d'un contrôleur performant (1400 de chez Mitsubishi) qui intègre les données requises par l'industrie (HSMS and GEM compatible.)
• Maintenance : facilitée par la possibilité de retirer l'unité de stockage des FOUPs.
• Encombrement : L'unité principale du VF-5900, seulement, est installée en salle blanche. Tous les sous-ensembles environnant et les accesoires peuvent être disposés sous le placher pour réduire l'encombrement de manière significative.

Semiconductor devices are becoming more complex due to miniaturization and increasing to utilized 3-dimensional designs. As a result of this complexity, gate oxide films and capacitive insulation films are becoming thinner and thinner, and the effects of natural oxidation oxide films can no longer be ignored. The process modules in the CVF-7000 series are arranged in a cluster. Continuous process without atmospheric contact, which is not only inhibits natural oxide formation, but also supports complex processes, is possible on CVF-7000.

Features ----------------------------------------

• Complex processing enables treatment with greater precision.
• The LGO heating element and 25-wafer-per-batch processing enable high-precision treatment and increased throughput.
• All chambers are vacuum purged and flushed with gas to suppress the growth of natural oxide films.