Schranköfen, Box-Öfen für den Inertgasbetrieb, mit Umlauferhitzung und HEPA Filter zur Partikelreduktion
JTEKT Thermo Systems wird in Europa vertreten durch
Crystec Technology Trading GmbH
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Schrank-Öfen
Eine eigene Abteilung innerhalb JTEKT Thermo
Systems (ehemals Koyo Thermo Systems) beschäftigt sich mit der Produktion von Öfen
aller Art für Laboratorien. Diese Öfen können den Kundenanforderungen
angepaßt werden.
JTEKT Thermo Systems ist ein Spezialist für
die Herstellung von sauberen Schranköfen bzw. Box-Öfen. Diese
Öfen sind als Umluftöfen konzipiert und teilweise mit HEPA
Filtern ausgerüstet um die Ofenkammer partikelfrei zu halten.
HEPA Filter (High Efficiency Particulate Arrestance) sind heutzutage
die führenden Filtersysteme in der Herstellung von Halbleiterbauelementen
und Flachbildschirmen sowie bei sonstigen Anwendungen bei denen eine maximale
Reduzierung oder Entfernung von Partikeln notwendig ist. HEPA Filter haben
eine tiefes Bett zufällig positionierter Mikroglasfasern, in dem die
gesamte Bettiefe (Dicke des Filters) groß im Vergleich zum Faserdurchmesser
und zum Porenquerschnitt ist.
Der Weg den das Gas durch den HEPA Filter nehmen muss, ist relativ lang.
Bei der Anlagerung von Partikeln an der Faseroberfläche wird der Porenquerschnitt kleiner und der Filter
effektiver.
JTEKT Thermo Systems nutzt diese Filter in den hier beschriebenen Reinöfen sowie in sauberen
Durchlauföfen für die LCD Industrie. Um die Filter vor Überhitzung in
den Öfen zu schützen wird ein spezielles Schutzsystem installiert.
Der HEPA Filter behält seine Wirksamkeit in einem solchen Ofen für
ein bis mehrere Jahre. HEPA Filter benötigen während der Laufzeit
keine Reinigung oder Wartung um die Wirksamkeit zu erhalten.
| CLH |
Für die Nutzung in der Halbleiterindustrie.
- Hochtemperaturversion eines Reinofens.
- Verfügbar für Temperaturen von 450°C bis 500°C.
- Wärmetauscher vor HEPA Filter.
- Temperaturgleichmäßigkeit von besser als ± 4°C.
- Spezialversion
für die Härtung von nicht-photosensitivem Polyimid verfügbar.
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| CLO |
Reinofen für Prozessierung in sauberer Atmosphäre.
- Integrierter HEPA Filter.
- Temperaturen bis zu 350°C
- Temperaturgleichmäßigkeiten besser als ± 5°C.
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| INH |
Diese Version ist mit mehreren Gaseinlässen ausgerüstet.
- Temperaturen von bis zu 600°C.
- Gleichmäßigkeiten von besser als ± 8°C.
- Sauerstoffgehalt kann unter 20ppm gehalten werden.
- Programierbare Steuerung. Kombination mit Abgasverbrennung ist möglich.
- Innenabmessung bis zu 1000 x 1000 x 1000 mm3
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| UTO |
Hochtemperaturofen.
- Temperaturen bis zu 700°C.
- Verteilung besser als ± 8°C.
- Aufheizung bis 700°C in 90 Min.
- Abgaszirkulation erhältlich.
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| S02-12-F |
Automatisch beladbarer Reinofen für 300mm Wafer.
- Reinofen, basierend auf dem Modell CLH-21
- geeignet für 300mm Siliciumwafer
- für FOUP Übergabestation
- Automatischer Wafertransfer
- 50 Wafers pro Los und pro Ofen
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Zur Ofensteuerung wird in Europa meist ein Programmregler der Fa. Stange eingesetzt,
der neben der Temperatursteuerung auch eine Gasflußsteuerung über MFCs (Mass Flow Controller) und die Einbindung von Gassensoren,
beispielsweise für die Sauerstoffmessung ermöglicht.
Optional ist eine Datenanbindung an einen PC verfügbar, die neben der langfristigen Datenspeicherung und statistischer Prozesskontrolle SPC
auch Rezeptbearbeitung und Prozessvisualisierung bietet.
JTEKT Thermo Systems und Crystec freuen sich darauf, für sie eine kostengünstige
Anlage aufzubauen, die Ihren strengsten Anforderungen entspricht.
