Kontinuierlicher Horizontalofen und Diffusionsofen, für die Halbleiterindustrie und die Solarzellen-Herstellung
JTEKT Thermo Systems wird in Europa vertreten durch
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Für viele Halbleiterprozesse werden normalerweise vertikale Rohröfen
und horizontale Rohröfen eingesetzt und im nicht-kontinuierlichen Betrieb eingesetzt.
Die Scheiben werden in ein Boot geladen, das Boot fährt in das Ofenrohr, der Prozess wird abgearbeitet, das Boot fährt
wieder aus und die Wafer werden entladen.
Alternativ können Durchlauföfen eingesetzt werden,
die ein Transportband nutzen um Proben durch den Ofentunnel zu befördern.
Diese Durchlauföfen sind jedoch nicht so partikelarm und Gase wie POCl3
können zur Dotierung nicht eingesetzt werden.
Für Halbleiteranwendungen ist der Stand der Technik die Nutzung von Rohröfen, heutzutage hauptsächlich von Vertikalöfen.
Für Anwendungen in der Elektronikindustrie und für Solaranwendungen wurden bislang oft Durchlauföfen genutzt,
um Kosten zu sparen.
Nun hat JTEKT (ehemals Koyo) einen neuen Ofentyp entwickelt, um die Vorteile beider Ofenarten zu vereinigen und um gleichzeitig die Kosten zu reduzieren:
JTEKT hat einen in-line, kontinuierlich arbeitenden Rohrofen entwickelt!
Die Wafer werden auf Quarzwägen mit einer Beladung von je 100 Wafern schrittweise durch den Ofen geschoben.
Das Design der Wägen ist dabei entscheidend für eine gute Temperaturgleichmäßigkeit über den Wafer und beeinflusst damit stark
das Prozessergebniss der Dotierung mit POCl3.
Gasschleusen an beiden Enden des Rohres trennen den Prozessraum von der Umgebung.
Die Vorteile dieses Aufbaus liegen auf der Hand:
Obwohl dieser Ofen ursprünglich für die Phosphor-Dotierung von Solarzellen mit POCl3 entwickelt wurde, kann das System auch für andere, in der Halbleiterindustrie genutzte Prozesse eingesetzt werden, solange die Prozesszeit nicht zu lang wird.
JTEKT Thermo Systems und Crystec freuen sich darauf, für sie eine kostengünstige Anlage aufzubauen, die Ihren strengsten Anforderungen entspricht.
