Horizontalofen, Horizontalöfen, Diffusionsofen, Diffusionsöfen für die Halbleiterindustrie
JTEKT Thermo Systems wird in Europa vertreten durch
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JTEKT Thermo Systems (ehemals Koyo Thermo Systems) produziert zahlreiche Versionen von Horizontalöfen mit vollautomatischem und manueller Bedienung. Kleine Versionen für Pilotlinien und Forschungsinstitute stehen zur Verfügung.
Die Anlagen werden oft unterschiedlich bezeichnet: Horizontalofen,
Horizontalöfen, Diffusionsofen, Diffusionsöfen, Rohrofen,
Rohröfen, Dotierofen, Dotieröfen, Oxidationsofen,
Oxidationsöfen, Halbleiterofen, Halbleiteröfen.
Sie sind für viele Prozesse in der Halbleiterhestellung wie
Diffusion,
Oxidation sowie LPCVD Prozesse (
Nitrid,
poly-Silicium,
TEOS ) und zur
Dotierung von Solarzellen mit
Phosphoroxychlorid POCl3 verfügbar.
Ein Spezialgebiet von JETEKT Thermo Systems sind Niedrigtemperaturanwendungen wie beispielsweise
Polyimidhärtung,
Kupfer-Tempern,
low-k,
SOG oder
Wasserstofftempern.
Suchen Sie nach einem Horizontalofen, nur weil dieser billiger ist? Haben Sie kleine Durchsätze und würden Sie gerne kleine Mengen Wafer prozessieren? Möchten Sie eine Superperformance? Dann hat JTEKT Thermo Systems einen Ofen gerade für Sie entwickelt! Bitte werfen Sie einen Blick auf JTEKT Thermo Systems's neuen VF1000 Ofen!
Diese Neuentwicklung ist ein kleiner Vertikalofen der speziell für Pilotlinien und Forschungslabors entwickelt wurde und die gleiche Leistungsfähigkeit wie die entsprechenden Produktionsöfen aufweist. Der Ofen ist auf kleine Chargen von 25 Wafern ausgelegt. Er ist für Wafergrößen von 3" - 12" verfügbar. Die manuelle Beladung des Bootes ermöglicht einen niedrigen Preis und erlaubt hohe Flexibilität. Die kleinen Abmessungen des Ofens helfen dem Kunden ebenso Kosten zu sparen. Automatischer Bootlift und programmierbare Steuerung werden genutzt um sehr gute Prozessergebnisse zu erzielen. VF1000 Öfen sind für alle Prozesse auslegbar und weisen die gleichen Prozessleistungen wie die großen Modelle VF5100 und VF5300 auf. Wie die größeren Versionen, sind auch die VF1000 Öfen mit den von JTEKT Thermo Systems (ehemals Koyo Thermo Systems) patentierten LGO Heizelementen ausgestattet. Der verfügbare Temperaturbereich reicht von 140°C bis zu 1250°C.
Sie können solche Vertikalöfen in Uppsala am Ångström Laboratorium der Universität besichtigen und evaluieren. Die Universität Uppsala arbeitet mit uns als Anwendungszentrum für Vertikalöfen VF1000 zusammen. Auf Anfrage können wir für Sie alternativ auch einen Besuch an der Universität Southampton zur Besichtigung solcher Öfen vereinbaren.
Bitte folgen Sie diesem Link um Vor- und Nachteile von Vertikal- und Horizontalöfen im Vergleich zu finden!
Hauptsächlich für die Dotierung von Solarzellen mit Phosphoroxychlorid POCl3
hat JTEKT jetzt auch einen kontinuierlichen Horizontalofen entwickelt,
der sich aber auch im Halbleiterbereich und für andere
Halbleiterprozesse einsetzen läßt, sofern die Prozesszeit nicht zu lang ist.
Die Wafer werden auf Quarzwägen mit einer Beladung von je 100 Wafern schrittweise durch den Ofen geschoben.
Gasschleusen an beiden Enden des Rohres trennen den Prozessraum von der Umgebung.
Die Vorteile eines solchen Ofens liegen auf der Hand:
Zwei Rohre nebeneinander ermöglichen eine einfache Automatisierung.
Durch den Wegfall der Beladestation ergibt sich eine deutlich kleinere Standfläche als beim herkömmlichen Horizontalofen.
Da die Beladezeit entfällt wird der Durchsatz erheblich gesteigert.
Der Ofen spart Energie, da Aufheiz- und Abkühlphasen entfallen.
Da kein Transportband installiert ist kommt es auch nicht zu thermischen Verlusten durch das Ausfahren eines heissen Transportbandes.
Es wird weniger Gas verbraucht, da keine Spülprozesse nötig sind.
Aufgrund des einfacheren Aufbaus, wird der Ofen zudem günstiger.
JTEKT Thermo Systems und Crystec freuen sich darauf, für Sie eine kostengünstige Anlage aufzubauen, die Ihren strengsten Anforderungen entspricht.