Gasbefeuchter mit Taupunktsteuerung zum befeuchten von Prozessgas.
Anlagen für die Halbleiterindustrie
|
Die beschriebene Anlage wurde zur Gasbefeuchtung von Prozessgasen ausgelegt. Der Taupunkt kann exakt festgelegt werden. Das feuchte Prozessgas kann für verschiedene Anwendungen in Öfen oder anderen Prozessanlagen eingesetzt werden. Die Befeuchtung erfolgt durch das Einmischen des Gases in reines Wasser mittels eines Rührers. Die Verweilzeit des Gases in der Flüssigkeit ist bei diesem Verfahren relativ hoch. Entsprechend gute Ergebnisse können erzielt werden. Das befeuchtete Gas wird dann über eine beheizte Gasleitung in den Ofen überführt. Der Feuchtigkeitsgehalt kann über eine Taupunktmessung geprüft werden. Die Steuerung des Prozessgasflusses erfolgt über die Ofensteuerung per MFC oder Flowmeter.
Die Anlage ist für den drucklosen Betrieb konzipiert (kein Überdruck und auch kein Unterdruck).
Sie hat aufgrund der Zentrifugalwirkung des Rotors nur einen geringen Druckverlust.
Die Beheizung des Wasserbehälters kann wahlweise elektrisch oder per Heizschlange erfolgen.
Die Temperierung über eine Heizschlange erfordert eine externe Temperieranlage,
kann jedoch auch über einen Chiller den Wasserbehälter kühlen und ermöglicht damit
die Einstellung eines Taupunktes zwischen 2°C und 80°C.
Die Anlage wird meist für die Befeuchtung von Inertgasen eingesetzt. Für die Befeuchtung von
Wasserstoff steht eine ex-geschütze Version zur Verfügung. In diesem Fall wird ein Druckluftmotor
für den Rotor eingesetzt und die indirekte Beheizung bzw. Kühlung verwendet.
Der Tank kann in Kunststoff oder Edelstahl ausgeführt werden.
Größe und Gasdurchlass der Anlage kann in weiten Bereichen Ihren Wünschen angepasst werden.
Zur Niederschlagung von Wasserdampf kann entweder ein Nasswäscher
verwendet werden oder bei größeren Wasserdampfmengen ein spezieller Dampfkondensator:
